采钰 (6789-TW) 今 (6) 日召开法说会，展望后市，公司看好，随手机市场进入季节性备货旺季，高阶手机新品带动 CIS 及环境光感测器需求升温，第三季营收可望季增中个位数，下半年营收也有机会优于上半年。

新兴应用方面，采钰持续扩大 AI 光通讯及矽光子布局，目前 800G 插拔式光模组相关微透镜已量产，下一代 1.6T 产品预计今年底逐步导入量产，高密度光耦合平台则以 2027 年下半年量产为目标。

采钰表示，公司在矽光子及 AI 光通讯领域，主要运用既有的晶圆级微光学、奈米结构及半导体制程能力，建立光纤阵列 (FAU)、光子积体电路 (PIC) 与光引擎之间的高精度光耦合平台，整体布局涵盖插拔式光收发模组、整合式光模组、共同封装光学 (CPO) 及未来的光学输入输出 (Optical I/O)。

在产品进度方面，采钰已由技术开发逐步进入量产及客户验证阶段。目前 800G 插拔式光模组中，应用于接收光次模组 (ROSA) 光侦测器上的 micro lens 已进入量产，可提升光侦测器的集光能力及接收端光学效率，成为公司目前 AI 光通产品中最明确的营收贡献项目。

下一代 1.6T 产品方面，采钰将提供 PIC 上的 AOD 及 CBD 等薄膜沉积制程，预计于 2026 年底逐步导入量产，随 AI 资料中心持续提高交换器及光模组传输速度，将成为公司切入新一代高速光通讯市场的重要产品。

除 800G 及 1.6T 产品外，采钰也正开发更高密度的光耦合平台，量产目标订在 2027 年下半年。目前包括 Metalens on FAU、多层 Metalens on FAU、Silicon Microlens on PIC，以及应用于 Micro LED、Micro-VCSEL 的氮化物微透镜等方案，皆已进入送样、模拟设计验证或小量封装验证阶段。

针对 Edge Coupling 所需的反射面及光路转向结构，采钰也正与国际产业伙伴进行设计讨论，希望透过微型光学结构，整合光纤准直、聚焦、光束转向、模式匹配、耦合及高精度对位等功能。

采钰指出，现阶段光互连技术主要可分为两大架构，第一种是以矽光子调变器、光侦测器及雷射为核心的「窄而快」方案，强调较高的单通道传输速度；第二种则是以 Micro LED 或 Micro-VCSEL 作为光源的「宽而慢」多通道平行光传输方案，公司在两种架构均已有相对应的微型光学元件布局。

在「窄而快」架构中，公司可提供 silicon microlens、metasurface array 及光路转向结构，提升雷射、PIC 与光纤之间的耦合效率；「宽而慢」架构则可透过氮化物微透镜阵列，协助 Micro LED 或 Micro-VCSEL 进行多通道光线准直及耦合。

采钰认为，随传输速度由 800G 朝 1.6T 甚至更高规格发展，光纤数量及通道密度将持续增加，FAU 与 PIC 之间对光束转向、聚焦、模式匹配及对位精度的要求也会同步提高，有利晶圆级微光学及半导体奈米制程的导入。

相较传统光学厂商采用精密机械加工、透镜或棱镜转角耦合，采钰将自身定位为晶圆级微光学及光路控制平台，可将准直、聚焦、光束整形、转向及对位补偿等功能，整合在 silicon microlens、metasurface 及类似 turning mirror 的半导体微结构中。

其中，多层 metasurface 可先将光线平行化，再聚焦至 PIC 的耦合位置，有助于提升高通道数架构的整合度及耦合精度。公司具备半导体等级的尺寸控制、晶圆级批次制造及多制程整合能力，可望在高速光通及 CPO 应用中形成差异化优势。

不过，采钰也强调，未来矽光子及 CPO 产业不会由单一厂商包办所有环节。传统光学、FAU、玻璃基板、PIC、封装及微型光学业者，仍需共同与客户定义光束尺寸、入射角、焦距及耦合结构，整合各自优势，才能兼顾耦合效率、良率、可维修性及成本。

因此，公司不会将其他光学方案单纯视为竞争者，而是希望成为不同 FAU、Glass Bridge 及矽光子平台均可采用的关键微光学合作伙伴，并透过共同设计，建立更完整的 AI 光通及 CPO 解决方案。

采钰第二季影像感测器产品占营收 75%，微型光学元件 (MOE) 占 24%，其中 MOE 占比较前季增加 5 个百分点，主要来自高阶手机环境光感测器开始逐步放量。

展望第三季，采钰预期手机市场进入传统备货旺季，高阶手机新品将带动 CIS 及环境光感测器出货增加，加上安控 CIS 转单需求延续，第三季营收预估季增中个位数，下半年整体营收也有机会高于上半年。

毛利率方面，公司预期下半年客户需求增温，产能利用率将稳定提升，高阶产品比重也会增加，加上折旧费用较去年同期下降约十多个百分点，若汇率未出现大幅波动，下半年毛利率可望较上半年微幅提升。

高阶手机 CIS 方面，采钰看好两亿画素逐步成为旗舰机种的重要规格。由于感测器尺寸无法随画素数量等比例放大，两亿画素产品需朝 0.6 微米等更小画素发展，进而面临进光量下降及画素间串扰增加等问题。

公司目前已布局 Low-n grid 低折射率网格技术，透过画素间的光学隔离降低串扰，目前已有客户在两亿画素产品中导入，预计今年下半年进入量产。随 Low-n grid 加入既有彩色滤光膜及微透镜制程，单片晶圆的加工内容及附加价值也将同步提高。

资本支出方面，采钰维持 2026 年全年约 7,000 万美元规划，主要用于增加 CIS 瓶颈站点设备、完成龙潭厂二期无尘室与基础厂务，以及投入 193 奈米曝光等奈米光学研发设备。

采钰表示，未来若 AI 光传输、CPO 及 AR 眼镜等新应用进入明确量产阶段，相关扩充设备将依客户需求及量产时程分阶段投入。龙潭厂二期无尘室目前已接近完工，公司预计在未来半年内，进一步厘清后续产能及扩产规划。